---
title: "Ahava Hyaluronic Acid Leave-On Mask 50 ml For Sensitive Skin"
ean: "0697045162048"
brand: "Ahava"
category: "Sundhed og skønhed > Personlig pleje > Kosmetik > Hudpleje > Lotion og fugtighedscreme"
price_min: 203
price_max: 239
currency: DKK
vendor_count: 3
in_stock: true
url: https://pricetracker.dk/p/0697045162048/ahava-hyaluronic-acid-leave-on-mask-50-ml-for-sensitive-skin
last_checked: 2026-07-17
---

# Ahava Hyaluronic Acid Leave-On Mask 50 ml For Sensitive Skin

EAN 0697045162048 · Mærke: Ahava · Kategori: Sundhed og skønhed > Personlig pleje > Kosmetik > Hudpleje > Lotion og fugtighedscreme

Sammenlign priser på Ahava Hyaluronic Acid Leave-On Mask 50 ml For Sensitive Skin fra 3 forhandlere. Billigste pris nu: 203 kr hos Teknikproffset DK. Se aktuelle priser og køb hos den billigste forhandler på https://pricetracker.dk/p/0697045162048/ahava-hyaluronic-acid-leave-on-mask-50-ml-for-sensitive-skin

## Priser
- **Billigste pris nu:** 203 kr hos Teknikproffset DK
- **Prisspænd:** 203 kr – 239 kr på tværs af 3 forhandlere
- **Historisk lavpris:** 190 kr (april 2026)
- **Prisudvikling (30 dage):** faldet 11%

## Forhandlere
| Forhandler | Pris | Levering |
|---|---|---|
| Teknikproffset DK | 203 kr | 5-7 Days |
| Proshop DK | 229 kr | — |
| Beautycos DK | 239 kr | — |

## Om produktet
Denne Leave-on maske fra AHAVA, er en særlig fugtgivende maske, der indeholder hyaluronsyre, som binder fugt i huden og peptider, som udglatter huden. Denne maske efterlader din hud blødere og mere behagelig, så du undgår en tør, stram og irriteret hud. Anvendelse: Kom den silkebløde maske på en ren hud i ansigtet og på halsen. Lad masken sidde indtil den er absorberet i huden, og massér overskydende produkt ind i huden. Obs; dette produkt skal ikke renses af. Parabenefri, Vegansk, Cruelty Free, alkoholfri og CMO fri.

---

Kilde: PriceTracker. Fuld side med interaktiv prishistorik og købslinks: https://pricetracker.dk/p/0697045162048/ahava-hyaluronic-acid-leave-on-mask-50-ml-for-sensitive-skin
Priserne er sidst kontrolleret 2026-07-17.